大國芯工 第一四七章 尋找外援

芯片加工廠的事按部就班的進(jìn)行，王岸然也放下一塊大石頭。

不過這只是開始，王岸然要買的不僅僅是一攤子設(shè)備，二是要消化技術(shù)。

就那光刻機(jī)來說，這套設(shè)備使用的是尼康生產(chǎn)的gkl107

436納米波長紫光光源，用的是高壓汞燈過濾之后色波長。

這套設(shè)備用不了幾年就會被淘汰。

相比于市場上更為先進(jìn)的248納米的紫光光源光刻機(jī)落后了兩代，中間相隔了一代365納米光源光刻機(jī)。

要知道365納米和248納米光源，中間隔了一道鴻溝。

436納米紫光光源演進(jìn)到365納米紫光光源，只能說是技術(shù)的進(jìn)步，所用的光源都是高壓汞燈。

而到了248納米紫光光源，那就是技術(shù)的換代，所用的光源是鹵素激光光源。

而且，王岸然記得很清楚，在1995年，193納米紫光激光光源的光刻機(jī)在技術(shù)上已經(jīng)取得重大突破，在今后的幾年也將投入市場。

要知道，芯片生產(chǎn)的核心裝備光刻機(jī)，每一次更新?lián)Q代付出的代價(jià)，至少是百億美的數(shù)量級金，而且越往后越難。

歷史上，193納米紫光光刻機(jī)之后的換代，玩死了一大批老牌光刻機(jī)廠家。

原本全世界可以生產(chǎn)光刻機(jī)的有十三家，日本就有四家，到157納米光刻機(jī)之后，也就ASML能勉強(qiáng)活下來，其他一大批廠家要么倒閉，要么半死不活。

島國最頂尖的尼康和佳能，也因?yàn)榉较蝈e誤，在157納米干式光刻與ASML浸沒式光刻機(jī)在競爭中落敗。

再加上ASML又搞出個(gè)雙工作臺技術(shù)，大大提高了芯片的生產(chǎn)力和精度。

讓兩大巨頭徹底從生產(chǎn)高端光刻機(jī)，淪為售賣中低端產(chǎn)品，再也無力最頂尖的極紫光光刻機(jī)的競爭。

到了9102年，全世界的高端市場，只養(yǎng)活了一家ASML。

事實(shí)上，如果沒有臺積電，Intel，三星等芯片巨頭的輸血，碩果僅存的ASML也將被市場的浪潮吞沒，光是臺積電和三星，在2016年就投了20億歐元，砸在ASML身上。

難，真難，也不一定會取得成功，光刻機(jī)的研究就是吞金巨獸，有沒有意義？

這是肯定的。

這不是錢的事。

但光刻機(jī)，光刻膠，蝕刻機(jī)，封裝設(shè)備，光憑華芯科技一家，吃透這些技術(shù)基本上不可能，這需要調(diào)動全社會的力量。

在清大的光學(xué)研究所，王岸然生了一肚子的悶氣。

劉本清教授在激光光源上耕耘一生，在1971年，參與了我國第一臺紫光干涉激光的研制，在1980年，負(fù)責(zé)國家第一臺接近式JL_01光刻機(jī)的研制。

他實(shí)在受不了，自己的研究工作，會受一個(gè)毛頭小伙子的指點(diǎn)。

而王黯然也是氣不過，自己在光學(xué)研究所投了上千萬，現(xiàn)在好了，就是增加一個(gè)浸沒式光刻機(jī)的探討研究，就這么難？

“王總，我再重申一遍，浸沒式光刻機(jī)雖然在理論上可以縮小投影圖，不過在實(shí)際操作上，已經(jīng)被證明了，這套技術(shù)行不通，研究下去就是浪費(fèi)錢?！?p/> “劉教授，我只是建議在這上面再做一些探討，而且這項(xiàng)技術(shù)并沒有證明行不通，而是還沒有行通?！?p/> 劉本偉不屑一顧。

“王總，我跟你說這句話是實(shí)事求是的，浸沒式光刻技術(shù)在七八年前就有立項(xiàng)，其中的困難跟你說，你也不清楚。

我只想說明一點(diǎn)，有那個(gè)精力研究浸沒式光刻機(jī)，把精力投到紫光激光光源上，效果會好的多?！?p/> 看來在這個(gè)時(shí)代，大家的普遍意識就是，搞浸沒式光刻機(jī)是條絕路。

王岸然深吸一口氣，犟鴨子嘴硬的科研人員太多了，自己當(dāng)初也是他們的一員，跟劉本清生氣，就是跟自己生氣。

這些人要是犯氣牛脾氣來，能把天捅破，唯一的解決之道，就是以德服人，哦，不，是以理服人。

“超高純度折射率液體，往往水里有一粒微塵，或者一個(gè)氣泡，或者多了一些離子，都可能對加工造成巨大的影響。

再加上高純水浮在晶片上，目前的光刻膠中的分子會溶進(jìn)水中，造成液體介質(zhì)污染，劉教授，我說的沒錯吧！”

劉本清在王岸然說第一句話的時(shí)候就愣住了，什么情況，他懂。

待到王岸然將兩大技術(shù)難點(diǎn)合盤而出，劉本清說道：“王總，你……？”

王岸然裝著沒看見，背過身，繼續(xù)說道：“除了兩大問題，在實(shí)際操作中，也會面臨平臺的穩(wěn)定性，校準(zhǔn)系統(tǒng)，曝光時(shí)間等問題，需要按每臺機(jī)器的類型多次調(diào)試……”

劉本清想給王岸然豎個(gè)大拇指，說一聲牛，這些資料可不怎么容易找到。

“王總，既然你知道浸沒式光刻機(jī)的缺陷，還需要繼續(xù)堅(jiān)持嗎？”

王岸然點(diǎn)點(diǎn)頭，說道：“為什么不！劉教授，高純水介質(zhì)我們可以自己研發(fā)也可以跟外國合作，厭水光刻膠我們也可以這么辦，當(dāng)然，也可以考慮在光刻膠上再噴一道絕水薄膜，沒有試過，怎么知道不行！”

“我們試過很多種辦法！”

“那就再試，試到解決為止……”

王岸然毫不客氣，作為投資人，他是來發(fā)布命令的，而不是跟你討價(jià)還價(jià)。

浸沒式光刻機(jī)肯定是未來的方向，而且波長越長，通過折射后，縮微的效果越明顯。

況且，光刻機(jī)的波長并能完全決定芯片的制程，通過特定的曝光方式也可以提高制程。

事實(shí)證明，193納米的紫光光源，也可以進(jìn)行65納米芯片工藝的生產(chǎn)。

以前世對半導(dǎo)體芯片制造的理解，浸沒式光刻，多重曝光方式能夠取得進(jìn)步的話，完全可以將這臺東芝的二手貨，改造成一臺可以生產(chǎn)800納米工藝的芯片加工廠，甚至更為先進(jìn)的320納米工藝也不是不可能。

只不過芯片生產(chǎn)的效率，肯定會差很多，但至少說明一點(diǎn)，我們掌握了這項(xiàng)技術(shù)。

而且通過這一過程，華芯科技還可以積累這部分的專利，在ASML前面設(shè)置一套專利壁壘。

至于這套專利有什么用，王岸然無法評估，按照他的估計(jì)，到那個(gè)時(shí)候，美利堅(jiān)政府應(yīng)該也會插手吧！

還有五年的時(shí)間，王岸然在紙上寫下磁懸浮雙工作臺，浸沒式光刻系統(tǒng)，兩大未來發(fā)展方向。

這次他不打算，光靠國內(nèi)研究機(jī)構(gòu)的力量。

“該到尋找外援的時(shí)候了！”